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作者：成纯王来源：原创发布日期：05-21

两辈子第一次见

金宏气体：高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节_蜘蛛资讯网

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日报网4月21日讯，金宏气体在接受调研者提问时表示，高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节；氧化亚氮主要用于薄膜沉积、化学气相沉积等核心制程环节。

日报网4月21日讯，金宏气体在接受调研者提问时表示，高纯二氧化碳主要应用于半导体清洗等工艺环节；氧化亚氮主要用于薄膜沉积、化学气相沉积等核心制程环节。

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发布时间：16:15:44

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